Численное моделирование лазерных фотоионизационных технологий очистки вещества на атомном уровне

• Дата: 2003
• Автор: Ambrosov, S. V.
• Формат: Стаття
• Мова: Українська
• Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2003
• Теми: лазерная фотоионизация; численное моделирование; очистка вещества; примеси Al; ридберговские состояния
• Онлайн доступ: https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2003.1.38
• Назва журналу: Technology and design in electronic equipment

For the first time, a methodology for numerical modeling of optimal schemes of laser photoionization technologies for material control and purification at the atomic level has been proposed and implemented (illustrated by the analysis of Al impurities in a Ge sample). The laser photoionization separ...