Комплексный подход к получению высокочистых материалов для микроэлектроники

• Опубліковано в: Технологія та конструювання в електронній апаратурі
• Дата: 2002
• Випуск: 6
• Сторінки: 3-6
• ISSN: 3083-6549
• Автори та афіліації: V. M. Azhazha — National Science Center «Kharkiv Institute of Physics and Technology», NAS of Ukraine, Ukraine; G. P. Kovtun — National Science Center «Kharkiv Institute of Physics and Technology», NAS of Ukraine, Ukraine; I. M. Nekljudov — National Science Center «Kharkiv Institute of Physics and Technology», NAS of Ukraine, Ukraine
• Автори: Azhazha, V. M., Kovtun, G. P., Nekljudov, I. M.
• Формат: Стаття
• Мова: Сомалійська мова
• Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2002
• Теми: высокочистые материалы; GaAs; геттерные материалы; очистка технологических газов
• Онлайн доступ: https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2002.6.03
• Назва журналу: Technology and design in electronic equipment

The paper presents the results of numerical simulation of the electrophysical properties of GaAs depending on the content of residual impurities, and describes physical refining methods for obtaining high-purity Ga, Zn, Cd, Te, Nb, Ta, Zr, and other metals. The results of research on the stability o...