Дослідження впливу кисню на швидкість і анізотропію глибинного травлення кремнію в плазмо-хімічному реакторі з керованим магнітним полем

• Datum: 2017
• Hauptverfasser: Hladkovskyi, V. V., Fedorovich, O. A.
• Format: Artikel
• Sprache: Ukrainisch
• Veröffentlicht: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2017
• Schlagworte: глибинне травлення кремнію; анізотропія; енергія іонів; плазмохімія; магнітне поле
• Online Zugang: https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2017.4-5.40
• Назва журналу: Technology and design in electronic equipment

The article presents the research results on the influence of the amount of oxygen in a mixture with sulfur hexafluoride on the rate and anisotropy of the silicon etching in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field. The etching was performed under the pressure of (0,3—2,0)·10–3...