Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок

The paper presents the research results on the device for obtaining diamond-like films from gas phase, constructed and tested in the Institute for Nuclear Research of the National Academy of Sciences. The device is based on a high-frequency (HF) discharge (13,56 MHz) into controlled crossed magnetic...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2014
Hauptverfasser: Hladkovskiy, V. V., Kostin, E. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Petriakov, V. A.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainian
Veröffentlicht: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2014
Schlagworte:
Online Zugang:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2014.5-6.39
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Institution

Technology and design in electronic equipment
id oai:tkea.com.ua:article-301
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-3012025-05-30T19:33:29Z The influence of if discharge parameters and heater settings on the substrate temperature in the plasma-chemical reactor «almaz» for the synthesis of diamond-like carbon films Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок Hladkovskiy, V. V. Kostin, E. G. Polozov, B. P. Fedorovich, O. A. Petriakov, V. A. carbon diamond-like films plasma chemical reactor substrate heating temperature углеродные алмазоподобные пленки плазмохимический реактор подложка температура нагрева The paper presents the research results on the device for obtaining diamond-like films from gas phase, constructed and tested in the Institute for Nuclear Research of the National Academy of Sciences. The device is based on a high-frequency (HF) discharge (13,56 MHz) into controlled crossed magnetic and electric fields. The discharge is excited in H2+CH4 or H2+CH4+Ar mixtures in different proportions. Working pressure in the chamber is 10–1 – 10–2 Torr. From the obtained results, the authors determine the time period for establishing of equilibrium substrate temperature at different HF discharge and main heater parameters. HF discharges, in the conditions of this study, at substrate temperatures above 600°C have virtually no influence on the temperature rise of the substrate. In addition, a new heater is proposed in order to increase the attainable temperature and reduce the time for establishing the equilibrium substrate temperature. A fehral heater can not heat the substrate to temperatures above 650°C. A molybdenum wire as a material of the heater can ensure the substrate holder temperature above 1000°C in a hydrogen atmosphere, but it has a short lifespan of a few months at the maximum temperature under daily use. Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе «Алмаз», разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряда и параметрах основного нагревателя. Установлено, что в условиях данного исследования при температурах подложки выше 600°С влияние ВЧ-разряда на повышение ее температуры практически отсутствует. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2014-12-24 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2014.5-6.39 10.15222/TKEA2014.5-6.39 Technology and design in electronic equipment; No. 5–6 (2014): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 39-45 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 5–6 (2014): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 39-45 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2014.5-6.39/266 Copyright (c) 2014 Hladkovskiy V. V., Kostin E. G., Polozov B. P., Fedorovich O. A., Petriakov V. A. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
institution Technology and design in electronic equipment
baseUrl_str
datestamp_date 2025-05-30T19:33:29Z
collection OJS
language Ukrainian
topic углеродные алмазоподобные пленки
плазмохимический реактор
подложка
температура нагрева
spellingShingle углеродные алмазоподобные пленки
плазмохимический реактор
подложка
температура нагрева
Hladkovskiy, V. V.
Kostin, E. G.
Polozov, B. P.
Fedorovich, O. A.
Petriakov, V. A.
Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
topic_facet carbon diamond-like films
plasma chemical reactor
substrate
heating temperature
углеродные алмазоподобные пленки
плазмохимический реактор
подложка
температура нагрева
format Article
author Hladkovskiy, V. V.
Kostin, E. G.
Polozov, B. P.
Fedorovich, O. A.
Petriakov, V. A.
author_facet Hladkovskiy, V. V.
Kostin, E. G.
Polozov, B. P.
Fedorovich, O. A.
Petriakov, V. A.
author_sort Hladkovskiy, V. V.
title Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_short Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_full Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_fullStr Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_full_unstemmed Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_sort влияние параметров вч-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_alt The influence of if discharge parameters and heater settings on the substrate temperature in the plasma-chemical reactor «almaz» for the synthesis of diamond-like carbon films
description The paper presents the research results on the device for obtaining diamond-like films from gas phase, constructed and tested in the Institute for Nuclear Research of the National Academy of Sciences. The device is based on a high-frequency (HF) discharge (13,56 MHz) into controlled crossed magnetic and electric fields. The discharge is excited in H2+CH4 or H2+CH4+Ar mixtures in different proportions. Working pressure in the chamber is 10–1 – 10–2 Torr. From the obtained results, the authors determine the time period for establishing of equilibrium substrate temperature at different HF discharge and main heater parameters. HF discharges, in the conditions of this study, at substrate temperatures above 600°C have virtually no influence on the temperature rise of the substrate. In addition, a new heater is proposed in order to increase the attainable temperature and reduce the time for establishing the equilibrium substrate temperature. A fehral heater can not heat the substrate to temperatures above 650°C. A molybdenum wire as a material of the heater can ensure the substrate holder temperature above 1000°C in a hydrogen atmosphere, but it has a short lifespan of a few months at the maximum temperature under daily use.
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
publishDate 2014
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2014.5-6.39
work_keys_str_mv AT hladkovskiyvv theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
AT kostineg theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
AT polozovbp theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
AT fedorovichoa theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
AT petriakovva theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
AT hladkovskiyvv vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
AT kostineg vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
AT polozovbp vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
AT fedorovichoa vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
AT petriakovva vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
AT hladkovskiyvv influenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
AT kostineg influenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
AT polozovbp influenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
AT fedorovichoa influenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
AT petriakovva influenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms
first_indexed 2025-09-24T17:30:42Z
last_indexed 2025-09-24T17:30:42Z
_version_ 1850410235300151296