Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники
The paper describes the source of solid-phase materials plasma flow generated by vacuum-arc discharge in vapours of diffuse evaporated anode. The source can efficiently create macroparticle-free plasma flows of various metals in vacuum, and provided the vacuum chamber is filled with required working...
Saved in:
| Date: | 2013 |
|---|---|
| Main Author: | |
| Format: | Article |
| Language: | Ukrainian |
| Published: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2013
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2013.4.37 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipment| id |
oai:tkea.com.ua:article-366 |
|---|---|
| record_format |
ojs |
| spelling |
oai:tkea.com.ua:article-3662025-08-10T19:14:23Z The source of macroparticle-free plasma flows for nanoelectronics Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники Borisenko, A. G. vacuum arc discharge anode nanostructure вакуум дуговой разряд анод наноструктура The paper describes the source of solid-phase materials plasma flow generated by vacuum-arc discharge in vapours of diffuse evaporated anode. The source can efficiently create macroparticle-free plasma flows of various metals in vacuum, and provided the vacuum chamber is filled with required working gases, the source creates gas and gas-metal plasma flows. The main characteristics of the discharge and the parameters of the plasma flows with compensated volume charge are presented. The source can be used for application of island and thin metal films on substrates of different materials, including dielectrics. Описан источник потоков плазмы твердофазных материалов, генерируемых вакуумно-дуговым разрядом в парах диффузно испаряемого анода. Источник способен эффективно создавать бескапельные потоки плазмы различных металлов в вакууме, а при напуске в вакуумную камеру необходимых рабочих газов — потоки газовой и газометаллической плазмы. Приведены основные характеристики разряда и параметры создаваемых плазменных потоков, имеющих компенсированный объемный заряд. Источник может быть использован для нанесения островковых и тонких металлических пленок на подложки из различных материалов, в том числе и диэлектрических. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2013-06-14 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2013.4.37 Technology and design in electronic equipment; No. 4 (2013): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 37-41 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 4 (2013): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 37-41 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2013.4.37/328 Copyright (c) 2013 Borisenko A. G. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ |
| institution |
Technology and design in electronic equipment |
| baseUrl_str |
|
| datestamp_date |
2025-08-10T19:14:23Z |
| collection |
OJS |
| language |
Ukrainian |
| topic |
вакуум дуговой разряд анод наноструктура |
| spellingShingle |
вакуум дуговой разряд анод наноструктура Borisenko, A. G. Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники |
| topic_facet |
vacuum arc discharge anode nanostructure вакуум дуговой разряд анод наноструктура |
| format |
Article |
| author |
Borisenko, A. G. |
| author_facet |
Borisenko, A. G. |
| author_sort |
Borisenko, A. G. |
| title |
Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники |
| title_short |
Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники |
| title_full |
Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники |
| title_fullStr |
Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники |
| title_full_unstemmed |
Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники |
| title_sort |
источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники |
| title_alt |
The source of macroparticle-free plasma flows for nanoelectronics |
| description |
The paper describes the source of solid-phase materials plasma flow generated by vacuum-arc discharge in vapours of diffuse evaporated anode. The source can efficiently create macroparticle-free plasma flows of various metals in vacuum, and provided the vacuum chamber is filled with required working gases, the source creates gas and gas-metal plasma flows. The main characteristics of the discharge and the parameters of the plasma flows with compensated volume charge are presented. The source can be used for application of island and thin metal films on substrates of different materials, including dielectrics. |
| publisher |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers |
| publishDate |
2013 |
| url |
https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2013.4.37 |
| work_keys_str_mv |
AT borisenkoag thesourceofmacroparticlefreeplasmaflowsfornanoelectronics AT borisenkoag istočnikbeskapelʹnyhplazmennyhpotokovdlânanoélektroniki AT borisenkoag sourceofmacroparticlefreeplasmaflowsfornanoelectronics |
| first_indexed |
2025-09-24T17:30:49Z |
| last_indexed |
2025-09-24T17:30:49Z |
| _version_ |
1850410244394450944 |