Фотоэлектрические свойства гетеропереходов n-SiC/n-Si

Photovoltaic effect in isotype heterotructure formed by nanocrystalline silicon carbide films on single crystal n-Si substrates (n-SiC/n-Si heterojunction) was studied. The films were produced by direct ionic deposition method. The model that takes into account the quantum wells and potential barrie...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Date:2012
Main Authors: Semenov, A. V., Kozlovskii, А. А., Puzikov, V. M.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2012
Subjects:
Online Access:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2012.5.27
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Technology and design in electronic equipment

Institution

Technology and design in electronic equipment
id oai:tkea.com.ua:article-422
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-4222025-09-19T16:00:28Z Photoelectric properties of n-SiC/n-Si heterojunctions Фотоэлектрические свойства гетеропереходов n-SiC/n-Si Semenov, A. V. Kozlovskii, А. А. Puzikov, V. M. silicon carbide photovoltaic effect heterojunction карбид кремния фотовольтаический эффект гетеропереход Photovoltaic effect in isotype heterotructure formed by nanocrystalline silicon carbide films on single crystal n-Si substrates (n-SiC/n-Si heterojunction) was studied. The films were produced by direct ionic deposition method. The model that takes into account the quantum wells and potential barriers caused by band offsets was proposed to explain the current-voltage characteristics and photovoltaic properties of the heterostructure n-SiC/n-Si. Исследован фотовольтаический эффект в изотипной гетероструктуре, образованной плен­ка­ми нанокристаллического карбида кремния, осажденными на монокристаллические подложки из n-Si (гетеропереход n-SiC/n-Si). Пленки получали методом прямого ионного осаждения. Для объяснения особенностей вольт-амперных и фотоэлектрических характеристик ге­те­ро­струк­ту­ры n-SiC/n-Si предложена модель, учитывающая присутствие в контактной области квантовых ям и потенциальных барьеров, обусловленных разрывами зон. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2012-10-23 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2012.5.27 Technology and design in electronic equipment; No. 5 (2012): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 27-30 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 5 (2012): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 27-30 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2012.5.27/381 Copyright (c) 2012 Semenov A. V., Kozlovskii A. A., Puzikov V. M. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
institution Technology and design in electronic equipment
baseUrl_str
datestamp_date 2025-09-19T16:00:28Z
collection OJS
language Ukrainian
topic карбид кремния
фотовольтаический эффект
гетеропереход
spellingShingle карбид кремния
фотовольтаический эффект
гетеропереход
Semenov, A. V.
Kozlovskii, А. А.
Puzikov, V. M.
Фотоэлектрические свойства гетеропереходов n-SiC/n-Si
topic_facet silicon carbide
photovoltaic effect
heterojunction
карбид кремния
фотовольтаический эффект
гетеропереход
format Article
author Semenov, A. V.
Kozlovskii, А. А.
Puzikov, V. M.
author_facet Semenov, A. V.
Kozlovskii, А. А.
Puzikov, V. M.
author_sort Semenov, A. V.
title Фотоэлектрические свойства гетеропереходов n-SiC/n-Si
title_short Фотоэлектрические свойства гетеропереходов n-SiC/n-Si
title_full Фотоэлектрические свойства гетеропереходов n-SiC/n-Si
title_fullStr Фотоэлектрические свойства гетеропереходов n-SiC/n-Si
title_full_unstemmed Фотоэлектрические свойства гетеропереходов n-SiC/n-Si
title_sort фотоэлектрические свойства гетеропереходов n-sic/n-si
title_alt Photoelectric properties of n-SiC/n-Si heterojunctions
description Photovoltaic effect in isotype heterotructure formed by nanocrystalline silicon carbide films on single crystal n-Si substrates (n-SiC/n-Si heterojunction) was studied. The films were produced by direct ionic deposition method. The model that takes into account the quantum wells and potential barriers caused by band offsets was proposed to explain the current-voltage characteristics and photovoltaic properties of the heterostructure n-SiC/n-Si.
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
publishDate 2012
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2012.5.27
work_keys_str_mv AT semenovav photoelectricpropertiesofnsicnsiheterojunctions
AT kozlovskiiaa photoelectricpropertiesofnsicnsiheterojunctions
AT puzikovvm photoelectricpropertiesofnsicnsiheterojunctions
AT semenovav fotoélektričeskiesvojstvageteroperehodovnsicnsi
AT kozlovskiiaa fotoélektričeskiesvojstvageteroperehodovnsicnsi
AT puzikovvm fotoélektričeskiesvojstvageteroperehodovnsicnsi
first_indexed 2025-09-24T17:30:54Z
last_indexed 2025-09-24T17:30:54Z
_version_ 1850410252674007040