Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста
The influence of deposition conditions on composition of in-situ oxygen doped polysilicon films has been investigated. A kinetic model of adsorption-deposition process using concentrated silane and nitrous oxide has been developed. The range of optimal ratios of silane and nitrous oxide flows and de...
Збережено в:
| Дата: | 2012 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2012
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2012.2.37 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Репозитарії
Technology and design in electronic equipment| _version_ | 1856543864032067584 |
|---|---|
| author | Nalivaiko, O. Yu. Тurtsevich, A. S. |
| author_facet | Nalivaiko, O. Yu. Тurtsevich, A. S. |
| author_sort | Nalivaiko, O. Yu. |
| baseUrl_str | |
| collection | OJS |
| datestamp_date | 2025-10-04T10:05:28Z |
| description | The influence of deposition conditions on composition of in-situ oxygen doped polysilicon films has been investigated. A kinetic model of adsorption-deposition process using concentrated silane and nitrous oxide has been developed. The range of optimal ratios of silane and nitrous oxide flows and deposition temperature, which provide the acceptable deposition rate, thickness uniformity, controllability of oxygen content in films and conformal deposition, have been determined. |
| first_indexed | 2025-09-24T17:30:58Z |
| format | Article |
| id | oai:tkea.com.ua:article-460 |
| institution | Technology and design in electronic equipment |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-10-05T01:25:50Z |
| publishDate | 2012 |
| publisher | PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers |
| record_format | ojs |
| spelling | oai:tkea.com.ua:article-4602025-10-04T10:05:28Z Deposition kinetics of in-situ oxygen doped polysilicon film Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста Nalivaiko, O. Yu. Тurtsevich, A. S. polysilicon adsorptive-kinetic model film deposition поликристаллический кремний адсорбционно-кинетическая модель процесс осаждения пленок The influence of deposition conditions on composition of in-situ oxygen doped polysilicon films has been investigated. A kinetic model of adsorption-deposition process using concentrated silane and nitrous oxide has been developed. The range of optimal ratios of silane and nitrous oxide flows and deposition temperature, which provide the acceptable deposition rate, thickness uniformity, controllability of oxygen content in films and conformal deposition, have been determined. Исследовано влияние условий осаждения на состав пленок поликристаллического кремния, легированного в процессе роста кислородом (ПКЛК). Разработана адсорбционно-кинетическая модель процесса осаждения ПКЛК с использованием концентрированного моносилана и закиси азота. Определена область оптимальных соотношений их расходов и температуры осаждения, при которых обеспечиваются приемлемая скорость и однородность осаждения, а также управляемость по содержанию кислорода в пленках и конформное осаждение пленок ПКЛК. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2012-02-28 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2012.2.37 Technology and design in electronic equipment; No. 2 (2012): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 37-41 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 2 (2012): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 37-41 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2012.2.37/415 Copyright (c) 2012 Nalivaiko O. Yu., Turtsevich A. S. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ |
| spellingShingle | поликристаллический кремний адсорбционно-кинетическая модель процесс осаждения пленок Nalivaiko, O. Yu. Тurtsevich, A. S. Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста |
| title | Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста |
| title_alt | Deposition kinetics of in-situ oxygen doped polysilicon film |
| title_full | Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста |
| title_fullStr | Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста |
| title_full_unstemmed | Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста |
| title_short | Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста |
| title_sort | кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста |
| topic | поликристаллический кремний адсорбционно-кинетическая модель процесс осаждения пленок |
| topic_facet | polysilicon adsorptive-kinetic model film deposition поликристаллический кремний адсорбционно-кинетическая модель процесс осаждения пленок |
| url | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2012.2.37 |
| work_keys_str_mv | AT nalivaikooyu depositionkineticsofinsituoxygendopedpolysiliconfilm AT turtsevichas depositionkineticsofinsituoxygendopedpolysiliconfilm AT nalivaikooyu kinetikaprocessovosaždeniâplenokpolikremniâlegirovannogokislorodomvprocesserosta AT turtsevichas kinetikaprocessovosaždeniâplenokpolikremniâlegirovannogokislorodomvprocesserosta |