Исследование допустимой импульсной мощности кремниевой p+–p–n+-структуры

The conducted researches of the thermal parameters of the silicon p+–p–n+-structure under the influence of the pulse signal have shown that the structure thermal resistance decreases in proportion to the decrease in the thickness of the base region and the dependence of the superheating tem...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2011
Автори: Karimov, A. V., Yodgorova, D. M., Abdulhaev, O. A., Karimov, A. A., Asanova, G. O.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2011
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2011.6.43
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment