Исследование свойств пленок нитрида и оксида кремния, полученных методом пла­з­мо­хи­ми­чес­кого осаждения на кремниевую подложку

• Дата: 2011
• Автори: Rubtsevich, I. I., Solovyov, Ya. A., Vysotskiy, V. B., Dudkin, A. I., Kovalchuk, N. S.
• Формат: Стаття
• Мова: Ukrainian
• Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2011
• Теми: микроэлектромеханические системы; внутренние механические напряжения; диэлектрические пленки; нитрид кремния; оксид кремния
• Онлайн доступ: https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2011.4.29
• Назва журналу: Technology and design in electronic equipment

The research has been carried out on dependence of mechanical stress on the modes of deposition of silicon nitride and oxide films obtained by plasma excited chemical vapour deposition of the layers from the gas phase (PECVD). The connection has been determined between the key parameters of the depo...