Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления

The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established tha...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автори: Brus, V. V., Kovaluk, Z. D., Maryanchuk, P. D., Orletsky, I. G., Maystruk, E. V.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2010
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.60
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment
id oai:tkea.com.ua:article-557
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-5572025-11-13T21:50:27Z The properties of metal contacts on TiO2 thin films produced by reactive magnetron sputtering Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления Brus, V. V. Kovaluk, Z. D. Maryanchuk, P. D. Orletsky, I. G. Maystruk, E. V. titanium dioxide film magnetron sputtering диоксид титана пленки магнетронное распыление The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established that indium contact on TiO2 thin films possessed sharply defined ohmic properties. Исследовались вольт-амперные характеристики металлических контактов (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства. Измерения ВАХ металлических контактов проводились с помощью трехзондового метода. Установлено, что контакт индия на тонких пленках TiO2 обладает четко выраженными омическими свойствами. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2010-12-26 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.60 Technology and design in electronic equipment; No. 5–6 (2010): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 60-62 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 5–6 (2010): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 60-62 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.60/505 Copyright (c) 2010 Brus V. V., Kovaluk Z. D., Maryanchuk P. D., Orletsky I. G., Maystruk E. V. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
institution Technology and design in electronic equipment
baseUrl_str
datestamp_date 2025-11-13T21:50:27Z
collection OJS
language Ukrainian
topic диоксид титана
пленки
магнетронное распыление
spellingShingle диоксид титана
пленки
магнетронное распыление
Brus, V. V.
Kovaluk, Z. D.
Maryanchuk, P. D.
Orletsky, I. G.
Maystruk, E. V.
Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
topic_facet titanium dioxide
film
magnetron sputtering
диоксид титана
пленки
магнетронное распыление
format Article
author Brus, V. V.
Kovaluk, Z. D.
Maryanchuk, P. D.
Orletsky, I. G.
Maystruk, E. V.
author_facet Brus, V. V.
Kovaluk, Z. D.
Maryanchuk, P. D.
Orletsky, I. G.
Maystruk, E. V.
author_sort Brus, V. V.
title Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_short Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_full Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_fullStr Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_full_unstemmed Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_sort свойства металлических контактов на пленках tio2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_alt The properties of metal contacts on TiO2 thin films produced by reactive magnetron sputtering
description The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established that indium contact on TiO2 thin films possessed sharply defined ohmic properties.
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
publishDate 2010
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.60
work_keys_str_mv AT brusvv thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT kovalukzd thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT maryanchukpd thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT orletskyig thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT maystrukev thepropertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT brusvv svojstvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT kovalukzd svojstvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT maryanchukpd svojstvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT orletskyig svojstvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT maystrukev svojstvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
AT brusvv propertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT kovalukzd propertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT maryanchukpd propertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT orletskyig propertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
AT maystrukev propertiesofmetalcontactsontio2thinfilmsproducedbyreactivemagnetronsputtering
first_indexed 2025-11-14T03:18:13Z
last_indexed 2025-11-14T03:18:13Z
_version_ 1850410274999238656