Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления

The properties of recrystallized polysilicon on insulator layers of p-type conductive SOI-structures with different carrier concentration irradiated with high-energy electrons flow about 1017 сm–2 in temperature range 4,2–300 К and high magnetic fields were investigated. It was found that h...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Date:2010
Main Author: Khoverko, Yu. N.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2010
Subjects:
Online Access:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.63
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Technology and design in electronic equipment

Institution

Technology and design in electronic equipment
id oai:tkea.com.ua:article-558
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-5582025-11-13T21:50:27Z Investigation of the stability of polysilicon layers in SOI-structures under irradiation by electrons and hard magnetic field influence Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления Khoverko, Yu. N. polysilicon SOI structure laser recrystallization sensor electronic irradiation magnetoresistance поликремний КНИ-структура лазерная рекристаллизация датчик электронное облучение магнетосопротивление The properties of recrystallized polysilicon on insulator layers of p-type conductive SOI-structures with different carrier concentration irradiated with high-energy electrons flow about 1017 сm–2 in temperature range 4,2–300 К and high magnetic fields were investigated. It was found that heavily doped laser recrystallized polysilicon on insulator layers show its radiation resistance under irradiation with high-energy electrons and magnetoresistance of such material remains quite low in magnetic field about 14 T does not exceed 1–2%. Such qulity can be applied in designing of microelectronic sensors of mechanical values operable in hard conditions of exploitation. Исследовались вольт-амперные характеристики металлических контактов (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства. Измерения ВАХ металлических контактов проводились с помощью трехзондового метода. Установлено, что контакт индия на тонких пленках TiO2 обладает четко выраженными омическими свойствами. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2010-12-26 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.63 Technology and design in electronic equipment; No. 5–6 (2010): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 63-66 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 5–6 (2010): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 63-66 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.63/506 Copyright (c) 2010 Khoverko Yu. N. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
institution Technology and design in electronic equipment
baseUrl_str
datestamp_date 2025-11-13T21:50:27Z
collection OJS
language Ukrainian
topic поликремний
КНИ-структура
лазерная рекристаллизация
датчик
электронное облучение
магнетосопротивление
spellingShingle поликремний
КНИ-структура
лазерная рекристаллизация
датчик
электронное облучение
магнетосопротивление
Khoverko, Yu. N.
Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
topic_facet polysilicon
SOI structure
laser recrystallization
sensor
electronic irradiation
magnetoresistance
поликремний
КНИ-структура
лазерная рекристаллизация
датчик
электронное облучение
магнетосопротивление
format Article
author Khoverko, Yu. N.
author_facet Khoverko, Yu. N.
author_sort Khoverko, Yu. N.
title Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_short Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_full Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_fullStr Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_full_unstemmed Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_sort свойства металлических контактов на пленках tio2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
title_alt Investigation of the stability of polysilicon layers in SOI-structures under irradiation by electrons and hard magnetic field influence
description The properties of recrystallized polysilicon on insulator layers of p-type conductive SOI-structures with different carrier concentration irradiated with high-energy electrons flow about 1017 сm–2 in temperature range 4,2–300 К and high magnetic fields were investigated. It was found that heavily doped laser recrystallized polysilicon on insulator layers show its radiation resistance under irradiation with high-energy electrons and magnetoresistance of such material remains quite low in magnetic field about 14 T does not exceed 1–2%. Such qulity can be applied in designing of microelectronic sensors of mechanical values operable in hard conditions of exploitation.
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
publishDate 2010
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.63
work_keys_str_mv AT khoverkoyun investigationofthestabilityofpolysiliconlayersinsoistructuresunderirradiationbyelectronsandhardmagneticfieldinfluence
AT khoverkoyun svojstvametalličeskihkontaktovnaplenkahtio2izgotovlennyhmetodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ
first_indexed 2025-11-14T03:18:14Z
last_indexed 2025-11-14T03:18:14Z
_version_ 1848822210510192640