Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
The properties of recrystallized polysilicon on insulator layers of p-type conductive SOI-structures with different carrier concentration irradiated with high-energy electrons flow about 1017 сm–2 in temperature range 4,2–300 К and high magnetic fields were investigated. It was found that h...
Gespeichert in:
| Datum: | 2010 |
|---|---|
| 1. Verfasser: | Khoverko, Yu. N. |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainian |
| Veröffentlicht: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2010
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.63 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipmentÄhnliche Einträge
-
Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
von: Брус, В.В., et al.
Veröffentlicht: (2010) -
Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
von: Brus, V. V., et al.
Veröffentlicht: (2010) -
Элементы твердотельной электроники на основе КНИ-структур и нитевидных кристаллов Si для криогенных температур
von: Druzhinin, A. A., et al.
Veröffentlicht: (2014) -
Тепловая математическая модель полупроводниковых приборов при измерении ВАХ импульсным способом
von: Druzhinin, А. A., et al.
Veröffentlicht: (2012) -
Низкотемпературный синтез и структура гибридных наноматериалов Ni@C, полученных методом реактивного магнетронного распыления
von: Мохненко, М.И., et al.
Veröffentlicht: (2015)