Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления

The properties of recrystallized polysilicon on insulator layers of p-type conductive SOI-structures with different carrier concentration irradiated with high-energy electrons flow about 1017 сm–2 in temperature range 4,2–300 К and high magnetic fields were investigated. It was found that h...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автор: Khoverko, Yu. N.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2010
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.63
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment