Корреляция параметров арсенид-галлиевых эпитаксиальных слоев и технологии их выращивания
The correlation between mobility and carriers concentration and growth’s conditions of gallium arsenic layers by liquid phase epitaxy is established. It is possible to obtain layers with required mobility and concentration of charge carriers by changing of technology parameters of growth’s process....
Saved in:
| Date: | 2009 |
|---|---|
| Main Authors: | Karimov, A. V., Yodgorova, D. M., Yakubov, E. N. |
| Format: | Article |
| Language: | Ukrainian |
| Published: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2009
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.5.38 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipmentSimilar Items
-
Корреляция параметров арсенид-галлиевых эпитаксиальных слоев и технологии их выращивания
by: Каримов, А.В., et al.
Published: (2009) -
Метод жидкофазной эпитаксии толстых слоев
by: Dranchuk, S. N., et al.
Published: (2013) -
Получение арсенид-галлиевых структур силовых биполярных и полевых транзисторов методом газофазной эпитаксии
by: Voronin, V. A., et al.
Published: (2010) -
Предэпитаксиальная обработка подложек GaSb для жидкофазного выращивания гомоэпитаксиальных слоев
by: Andronova, О. V., et al.
Published: (2008) -
Комбинированный способ выращивания эпитаксиальных слоев полупроводниковых соединений А³В⁵
by: Ёдгорова, Д.М., et al.
Published: (2007)