Корреляция параметров арсенид-галлиевых эпитаксиальных слоев и технологии их выращивания

• Дата: 2009
• Автори: Karimov, A. V., Yodgorova, D. M., Yakubov, E. N.
• Формат: Стаття
• Мова: Ukrainian
• Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009
• Теми: p–n-переход; эпитаксия; подвижность; концентрация; температура
• Онлайн доступ: https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.5.38
• Назва журналу: Technology and design in electronic equipment

The correlation between mobility and carriers concentration and growth’s conditions of gallium arsenic layers by liquid phase epitaxy is established. It is possible to obtain layers with required mobility and concentration of charge carriers by changing of technology parameters of growth’s process....