Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур

A design and technological analysis of the scheme for measuring ellipsometric parameters, calculating the refractive index and film thickness has been carried out. A block diagram has been developed and a prototype instrument has been created for monitoring the degree of uniformity of film structure...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2009
Hauptverfasser: Makara, V. A., Odarych, V. A., Kepich, T. Yu., Preobragenskaya, T. D., Rudenko, O. V.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainian
Veröffentlicht: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009
Schlagworte:
Online Zugang:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.3.40
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Institution

Technology and design in electronic equipment
id oai:tkea.com.ua:article-668
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-6682025-12-01T20:49:10Z Apparatus and methods for measuring of the film structures homogeneity degree Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур Makara, V. A. Odarych, V. A. Kepich, T. Yu. Preobragenskaya, T. D. Rudenko, O. V. ellipsometry methods of measuring the film parameters homogeneity control эллипсометрия методы измерения параметров пленок контроль однородности A design and technological analysis of the scheme for measuring ellipsometric parameters, calculating the refractive index and film thickness has been carried out. A block diagram has been developed and a prototype instrument has been created for monitoring the degree of uniformity of film structures during their fabrication. A package of automated programs has been developed for calculating the refractive index and film thickness from the measured ellipsometric parameters, based on an iterative method for solving the ellipsometry equation. The instrument was tested on the example of determining the refractive index and thickness of CdTe films and HfO₂ films, which demonstrated the possibility of controlling film uniformity both across the area and in thickness. В ра­бо­те про­ве­ден кон­струк­тор­ско-тех­но­ло­ги­че­ский ана­лиз схе­мы из­ме­ре­ния эл­лип­со­мет­ри­че­ских па­ра­мет­ров, рас­че­та по­ка­за­те­ля пре­лом­ле­ния и тол­щи­ны плен­ки, раз­ра­бо­та­на блок-схе­ма и соз­дан ма­кет при­бо­ра для кон­тро­ля сте­пе­ни од­но­род­но­сти пле­ноч­ных струк­тур в про­цес­се их из­го­то­вле­ния. Раз­ра­бо­тан па­кет ав­то­ма­ти­зи­ро­ван­ных прог­рамм вы­чи­сле­ния по­ка­за­те­ля пре­лом­ле­ния и тол­щи­ны пле­нок по из­ме­рен­ным эл­лип­со­мет­ри­че­ским па­ра­мет­рам, ко­то­рые ос­но­ва­ны на ите­ра­ци­он­ном ме­то­де ре­ше­ния урав­не­ния эл­лип­со­мет­рии. Про­ве­де­на ап­ро­ба­ция при­бо­ра на при­ме­ре оп­ре­де­ле­ния по­ка­за­те­ля пре­лом­ле­ния и тол­щи­ны пле­нок CdTe и пле­нок HfO2, ко­то­рая по­ка­за­ла воз­мож­ность кон­тро­ля од­но­род­но­сти пле­нок как по пло­ща­ди, так и по тол­щи­не. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009-06-30 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.3.40 Technology and design in electronic equipment; No. 3 (2009): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 40-46 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 3 (2009): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 40-46 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.3.40/607 Copyright (c) 2009 Makara V. A., Odarych V. A., Kepich T. Yu., Preobragenskaya T. D., Rudenko O. V. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
institution Technology and design in electronic equipment
baseUrl_str
datestamp_date 2025-12-01T20:49:10Z
collection OJS
language Ukrainian
topic эллипсометрия
методы измерения параметров пленок
контроль однородности
spellingShingle эллипсометрия
методы измерения параметров пленок
контроль однородности
Makara, V. A.
Odarych, V. A.
Kepich, T. Yu.
Preobragenskaya, T. D.
Rudenko, O. V.
Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур
topic_facet ellipsometry
methods of measuring the film parameters
homogeneity control
эллипсометрия
методы измерения параметров пленок
контроль однородности
format Article
author Makara, V. A.
Odarych, V. A.
Kepich, T. Yu.
Preobragenskaya, T. D.
Rudenko, O. V.
author_facet Makara, V. A.
Odarych, V. A.
Kepich, T. Yu.
Preobragenskaya, T. D.
Rudenko, O. V.
author_sort Makara, V. A.
title Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур
title_short Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур
title_full Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур
title_fullStr Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур
title_full_unstemmed Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур
title_sort прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур
title_alt Apparatus and methods for measuring of the film structures homogeneity degree
description A design and technological analysis of the scheme for measuring ellipsometric parameters, calculating the refractive index and film thickness has been carried out. A block diagram has been developed and a prototype instrument has been created for monitoring the degree of uniformity of film structures during their fabrication. A package of automated programs has been developed for calculating the refractive index and film thickness from the measured ellipsometric parameters, based on an iterative method for solving the ellipsometry equation. The instrument was tested on the example of determining the refractive index and thickness of CdTe films and HfO₂ films, which demonstrated the possibility of controlling film uniformity both across the area and in thickness.
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
publishDate 2009
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.3.40
work_keys_str_mv AT makarava apparatusandmethodsformeasuringofthefilmstructureshomogeneitydegree
AT odarychva apparatusandmethodsformeasuringofthefilmstructureshomogeneitydegree
AT kepichtyu apparatusandmethodsformeasuringofthefilmstructureshomogeneitydegree
AT preobragenskayatd apparatusandmethodsformeasuringofthefilmstructureshomogeneitydegree
AT rudenkoov apparatusandmethodsformeasuringofthefilmstructureshomogeneitydegree
AT makarava priborimetodyizmereniâparametrovistepeniodnorodnostiplenočnyhstruktur
AT odarychva priborimetodyizmereniâparametrovistepeniodnorodnostiplenočnyhstruktur
AT kepichtyu priborimetodyizmereniâparametrovistepeniodnorodnostiplenočnyhstruktur
AT preobragenskayatd priborimetodyizmereniâparametrovistepeniodnorodnostiplenočnyhstruktur
AT rudenkoov priborimetodyizmereniâparametrovistepeniodnorodnostiplenočnyhstruktur
first_indexed 2025-12-02T15:19:31Z
last_indexed 2025-12-02T15:19:31Z
_version_ 1850762687588335616