Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок
It has been established that the quality of the film after various technological operations in the manufacture of ICs can be assessed by changes in the film's transmission spectrum. This makes it possible to eliminate IC defects caused by metal layer breakage.
Збережено в:
| Дата: | 2009 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2009
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.2.46 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Репозитарії
Technology and design in electronic equipment| id |
oai:tkea.com.ua:article-685 |
|---|---|
| record_format |
ojs |
| spelling |
oai:tkea.com.ua:article-6852025-12-04T21:17:20Z Modification of organosilicon films properties during the thermal and plasma treatments Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок Ivanchykau, A. E. Kisel, A. M. Medvedeva, A. B Plebanovich, V. I. film structure etching rate transmission spectrum струкрура пленки скорость травления спектр пропускания It has been established that the quality of the film after various technological operations in the manufacture of ICs can be assessed by changes in the film's transmission spectrum. This makes it possible to eliminate IC defects caused by metal layer breakage. Установлено, что оценка качества пленки после различных технологических операций изготовления ИС может проводиться по изменению спектра пропускания пленки. Это позволяет исключить брак ИС, обусловленный обрывом слоя металла. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2009-04-30 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.2.46 Technology and design in electronic equipment; No. 2 (2009): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 46-50 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 2 (2009): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 46-50 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.2.46/623 Copyright (c) 2009 Ivanchykau A. E., Kisel A. M., Medvedeva A. B., Plebanovich V. I. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ |
| institution |
Technology and design in electronic equipment |
| baseUrl_str |
|
| datestamp_date |
2025-12-04T21:17:20Z |
| collection |
OJS |
| language |
Ukrainian |
| topic |
струкрура пленки скорость травления спектр пропускания |
| spellingShingle |
струкрура пленки скорость травления спектр пропускания Ivanchykau, A. E. Kisel, A. M. Medvedeva, A. B Plebanovich, V. I. Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок |
| topic_facet |
film structure etching rate transmission spectrum струкрура пленки скорость травления спектр пропускания |
| format |
Article |
| author |
Ivanchykau, A. E. Kisel, A. M. Medvedeva, A. B Plebanovich, V. I. |
| author_facet |
Ivanchykau, A. E. Kisel, A. M. Medvedeva, A. B Plebanovich, V. I. |
| author_sort |
Ivanchykau, A. E. |
| title |
Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок |
| title_short |
Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок |
| title_full |
Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок |
| title_fullStr |
Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок |
| title_full_unstemmed |
Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок |
| title_sort |
изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок |
| title_alt |
Modification of organosilicon films properties during the thermal and plasma treatments |
| description |
It has been established that the quality of the film after various technological operations in the manufacture of ICs can be assessed by changes in the film's transmission spectrum. This makes it possible to eliminate IC defects caused by metal layer breakage. |
| publisher |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers |
| publishDate |
2009 |
| url |
https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.2.46 |
| work_keys_str_mv |
AT ivanchykauae modificationoforganosiliconfilmspropertiesduringthethermalandplasmatreatments AT kiselam modificationoforganosiliconfilmspropertiesduringthethermalandplasmatreatments AT medvedevaab modificationoforganosiliconfilmspropertiesduringthethermalandplasmatreatments AT plebanovichvi modificationoforganosiliconfilmspropertiesduringthethermalandplasmatreatments AT ivanchykauae izmeneniesvojstvplenokkremnijorganičeskihstekolposletermičeskojiplazmohimičeskojobrabotok AT kiselam izmeneniesvojstvplenokkremnijorganičeskihstekolposletermičeskojiplazmohimičeskojobrabotok AT medvedevaab izmeneniesvojstvplenokkremnijorganičeskihstekolposletermičeskojiplazmohimičeskojobrabotok AT plebanovichvi izmeneniesvojstvplenokkremnijorganičeskihstekolposletermičeskojiplazmohimičeskojobrabotok |
| first_indexed |
2025-12-06T12:40:42Z |
| last_indexed |
2025-12-06T12:40:42Z |
| _version_ |
1850762689381400576 |