Низкотемпературная модификация медных пленок под воздействием атомарного водорода

The possibility of low-temperature modification of the properties of thin copper films under the influence of atomic hydrogen is considered. The results of an experimental study of changes in the adhesion and cohesion properties of copper films within the "copper – silicon" hetero...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Datum:2006
Hauptverfasser: Zhavzharov, E. L., Matyushin, V. M.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainisch
Veröffentlicht: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2006
Schlagworte:
Online Zugang:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2006.1.50
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Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Institution

Technology and design in electronic equipment