Низкотемпературная модификация медных пленок под воздействием атомарного водорода
The possibility of low-temperature modification of the properties of thin copper films under the influence of atomic hydrogen is considered. The results of an experimental study of changes in the adhesion and cohesion properties of copper films within the "copper – silicon" hetero...
Gespeichert in:
| Datum: | 2006 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainisch |
| Veröffentlicht: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2006
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2006.1.50 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipmentSchreiben Sie den ersten Kommentar!