Influence of SiOx-film deposited by thermal evaporation on the near-bandedge luminescence of mono-crystalline silicon
Збережено в:
Дата: | 2010 |
---|---|
Автори: | N. A. Vlasenko, N. V. Sopinskij, E. G. Gule, L. I. Veligura, Ja. Bratus, R. S. Melnik, Z. L. Denisova, M. A. Mukhlo |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2010
|
Назва видання: | Optoelectronics and Semiconductor Technique |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000363613 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Optical study of thermally induced phase separation in evaporated SiOx films
за авторством: Indutnyy, I.Z., та інші
Опубліковано: (2004) -
Nickel-induced enhancement of photo-luminescence in nc-Si-SiOx nanostructures
за авторством: K. V. Michailovska, та інші
Опубліковано: (2014) -
Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
за авторством: O. O. Havryliuk, та інші
Опубліковано: (2013) -
Electron field emission from SiOx films
за авторством: Evtukh, А.А., та інші
Опубліковано: (2003) -
Paramagnetic defects related to photoluminescence in SiOx films
за авторством: Rudko, G.Yu., та інші
Опубліковано: (2004)