The structure of oxide film on the porous silicon surface
Збережено в:
Дата: | 2020 |
---|---|
Автори: | O. I. Zavalistyi, O. V. Makarenko, V. A. Odarych, A. L. Yampolskyi |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2020
|
Назва видання: | Ukrainian journal of physics |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001089103 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
The structure of oxide film on the porous silicon surface
за авторством: O. I. Zavalistyi, та інші
Опубліковано: (2020) -
Spectroscopy of films of polysilanes/porous silicon and titanium oxides nanocomposites
за авторством: N. I. Ostapenko, та інші
Опубліковано: (2011) -
Peculiarities of nanocrystalline silicon films growth on porous anodic alumina surface
за авторством: P. V. Parfenyuk, та інші
Опубліковано: (2017) -
Optical parameters of nanocomposite films of porous aluminium oxide with quantum dots of silicon or germanium
за авторством: Ju. V. Ushenin, та інші
Опубліковано: (2013) -
Electrical properties of silicon-oxide heterostructures on the basis of porous silicon
за авторством: I. B. Olenych, та інші
Опубліковано: (2017)