Features of X-ray photoelectron spectroscopy for determining the thickness of ultrathin films
Збережено в:
Дата: | 2010 |
---|---|
Автори: | A. N. Stervoedov, V. M. Beresnev, N. V. Sergeeva |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2010
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000877899 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
X-ray photoelectron spectroscopy of Sn₂P₂S₆ crystals
за авторством: Grigas, J., та інші
Опубліковано: (2008) -
TMR, MRE, and X-ray photoelectron spectroscopy of Fe-SiO₂ granular films
за авторством: Kravets, V.G., та інші
Опубліковано: (2005) -
X-ray photoelectron spectroscopy and auger in research solid surface
за авторством: M. I. Terebinskaja, та інші
Опубліковано: (2016) -
The analysis of a nanoparticles surface by X - ray photoelectronic spectroscopy
за авторством: K. H. Lopatko, та інші
Опубліковано: (2009) -
Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
за авторством: Loya, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2004)