Kasimov, F. D., & Ragimov, M. R. (2002). The negatronic elements on the basis of local polycrystalline silicon films.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Kasimov, F. D., та M. R. Ragimov. The Negatronic Elements on the Basis of Local Polycrystalline Silicon Films. 2002.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Kasimov, F. D., та M. R. Ragimov. The Negatronic Elements on the Basis of Local Polycrystalline Silicon Films. 2002.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.