Lisovskij, V., But, Z., Landri, K., Due, D., & Kasan, V. (2004). Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Lisovskij, V., Zh.-P But, K. Landri, D. Due, und V. Kasan. Plasma Cleaning of Technological Chambers in Rf Capacitive Discharges. 2004.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Lisovskij, V., et al. Plasma Cleaning of Technological Chambers in Rf Capacitive Discharges. 2004.
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