Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges

Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2004
Hauptverfasser:	V. Lisovskij, Zh.-P. But, K. Landri, D. Due, V. Kasan
Format:	Artikel
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2004
Schriftenreihe:	Physical surface engineering
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849749
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