The investigation of RF discharge in the procession-plasma method by coating films

The investigation of RF discharge in the procession-plasma method by coating films

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2003
Автори:	V. I. Gritsenko, V. M. Beresnev, O. M. Shvets
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2003
Назва видання:	Physical surface engineering
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849880
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Theoretical and experimental investigation of the plasma source with argon RF barrier discharge at atmospheric pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)

Treatment of polyimide films by an atmospheric pressure plasma of capacitive RF discharge for liquid crystal alignment
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2013)

Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Plasma sterilization in low-pressure RF discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Characterisation of Element Distribution in Films and Coatings with RF GDOES and TOFMS™ Methods
за авторством: P. Chapon, та інші
Опубліковано: (2012)

Influence of dust particles on RF-discharge plasma afterglow
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)

2-D electron system in the RF-discharge plasma. Part II. similarity of TDES in a solid and in the RF discharge
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2019)

Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)

Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)

Stochastic heating of electrons in capacitive RF discharges by plasma oscillations
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012)

Development of Technology for Vacuum Surface Conditioning by RF Plasma Discharge Combined with DC Discharge
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)

Deposition of nanocrystalline silicon films into low frequency induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.M., та інші
Опубліковано: (2014)

The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)

Plasma parameters evolution during conditioning RF discharges in Uragan-2M torsatron
за авторством: Skibenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2009)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Photometric diagnostics of plasma of planar capacitive RF discharge in argon at 1 atm pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)

2-D electron system in the RF-discharge plasma. Part I. General observations
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2018)

Coatings obtained by deposition of refractory compounds from flows of vacuum-arc metallical plasma
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2003)

Basic plasma features of planar jet formed by capacitive RF discharge in atmosphere pressure argon
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)

Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2017)

Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.N., та інші
Опубліковано: (2019)

Influence of movable B₄C-limiter on characteristics of RF discharge plasma in the Uragan-2M torsatron
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2019)

Numerical simulation of nanoparticles coagulation in RF-discharge
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)

Growth rate of diamond-like coatings synthesized in RF discharge at various ratios of the concentrations of Ar and C₆H₆
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2021)

Ignition and properties of RF capacitive discharge in acetylene
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)

RF discharge in argon with cylindrical dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Dissociative mode in low-pressure RF discharge
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006)

Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023)

Influence of the frame-type antenna on the RF-discharge peripheral plasma parameters in the Uragan-3M torsatron
за авторством: Leleko, Ya.F., та інші
Опубліковано: (2017)

Radial distributions of RF discharge plasma parameters and radial electric field in the Uragan-3M torsatron
за авторством: Volkov, E.D., та інші
Опубліковано: (2000)

Nanocrystalline coatings by vacuum-arc method with usage of high frequency voltage
за авторством: P. V. Turbin, та інші
Опубліковано: (2006)

Investigation of nonequilibrium in plasma of ARC discharge between melting electrodes
за авторством: Fesenko, S.O., та інші
Опубліковано: (2018)

Simulation of the ignition of alow pressure rf capacitive discharge
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)

Experimental investigation of peculiarities of the beam-plasma discharge initial stage
за авторством: Ivanov, B.I., та інші
Опубліковано: (2008)

Investigation of parameters of the working substance - low temperature plasma in the ionization resonator chamber of the RF reactive engine
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)

Investigation of jumping pulsed electrical discharge for plasma chemistry application
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)

Efficiency of the nitriding process in glow discharge plasma
за авторством: Zhovtyansky, V.A., та інші
Опубліковано: (2011)

Erosion behavior of W-Ta coatings in plasmas of stationary mirror Penning discharges
за авторством: Belous, V.A., та інші
Опубліковано: (2017)

Some aspects of RF discharge in the "U-3M" torsatron
за авторством: Berezhniy, V.L., та інші
Опубліковано: (2007)