Ion beam technologies of surface modification. I. Ion cleaning and high dose implantation
Збережено в:
| Дата: | 2003 |
|---|---|
| Автори: | V. A. Belous, V. I. Lapshin, I. G. Marchenko, I. M. Nekljudov |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2003
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849881 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
за авторством: M. A. Lisovenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: M. A. Lisovenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
за авторством: Lisovenko, M.A., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Lisovenko, M.A., та інші
Опубліковано: (2013)
Magnetic force microscopy of YLaFeO films implanted by high dose of nitrogen ions
за авторством: I. M. Fodchuk, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. M. Fodchuk, та інші
Опубліковано: (2013)
Influence of high-dose ion implantation of NiTi equiatomic on shape memory and pseudoelastic
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
Ion sources optimization for high energy ion implantation by computer simulation
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Progress in riboon ion beam implantation systems development
за авторством: Masunov, E.S., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Masunov, E.S., та інші
Опубліковано: (2010)
Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Voids’ layer structures in silicon irradiated with high doses of high-energy helium ions
за авторством: Starchyk, M.I., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Starchyk, M.I., та інші
Опубліковано: (2015)
Voids' layer structures in silicon irradiated with high doses of high-energy helium ions
за авторством: M. I. Starchyk, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: M. I. Starchyk, та інші
Опубліковано: (2015)
Influence of ion implantation and annealing on composition and structure of GaAs surface
за авторством: Normuradov, M.T., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Normuradov, M.T., та інші
Опубліковано: (2002)
Properties of steel modified by surface ion implantation with Mo, Ti, and Al
за авторством: S. O. Kryvoruchko, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: S. O. Kryvoruchko, та інші
Опубліковано: (2022)
Properties of steel modified by surface ion implantation with Mo, Ti, and Al
за авторством: S. O. Kryvoruchko, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: S. O. Kryvoruchko, та інші
Опубліковано: (2022)
The effect of the nitrogen ion–beam implantation on adhesiveness of the WC–8Co hard alloy
за авторством: V. A. Zaloga, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: V. A. Zaloga, та інші
Опубліковано: (2012)
Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation
за авторством: Poperenko, L.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Poperenko, L.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Influence of ion implantation on the phase transitions in Cu₆PS₅I superionic conductors
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2010)
Surface nanorelief modification of constructional materials at low energy ion bombardment
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2016)
High-intensity cesium ion beams for HIBP diagnostics
за авторством: Krupnik, L.I., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Krupnik, L.I., та інші
Опубліковано: (2020)
Optimum plasma lens for focussing of high-current ion beams
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2002)
Oxygen ion-beam modification of vanadium oxide films for reaching a high value of the resistance temperature coefficient
за авторством: T. M. Sabov, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: T. M. Sabov, та інші
Опубліковано: (2017)
Oxygen ion-beam modification of vanadium oxide films for reaching a high value of the resistance temperature coefficient
за авторством: Sabov, T.M., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Sabov, T.M., та інші
Опубліковано: (2017)
Influence of helium ion implantation on the form of an elementary cell in near-surface layers of single crystals
за авторством: I. P. Yaremii, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. P. Yaremii, та інші
Опубліковано: (2013)
The influence of ion implantation by phosphorous on structural changes in porous silicon
за авторством: Swiatek, Z., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Swiatek, Z., та інші
Опубліковано: (2004)
Nanostructuring of Surface Layers of Corrosion-Resistant Austenitic Steels during High-Intensity Ion-Beam Processing
за авторством: A. V. Belyj, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: A. V. Belyj, та інші
Опубліковано: (2011)
Formation of Stationary Surface Structures During Ion Beam Sputtering
за авторством: I. O. Lysenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. O. Lysenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Distribution of chemical elements in the surface layer of the films implanted ions SI+ with yttrium iron garnet
за авторством: V. M. Pylypiv, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: V. M. Pylypiv, та інші
Опубліковано: (2014)
Laser-assisted modification of a surface of titanium implants
за авторством: M. A. Vasilev, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: M. A. Vasilev, та інші
Опубліковано: (2010)
Implantation of deuterium and helium ions into composite structure with tantalum coating
за авторством: Bobkov, V.V., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Bobkov, V.V., та інші
Опубліковано: (2018)
Effect of deuterium implantation dose on properties of CrN coatings
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2017)
Research of recombination characteristics of Cz-Si implanted with iron ions
за авторством: D. V. Gamov, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: D. V. Gamov, та інші
Опубліковано: (2013)
Research of recombination characteristics of Cz-Si implanted with iron ions
за авторством: D. V. Hamov, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: D. V. Hamov, та інші
Опубліковано: (2013)
Transport and acceleration of the high-current ion beam in magneto-isolated gap
за авторством: Karas, V.I., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Karas, V.I., та інші
Опубліковано: (2015)
Formation of structural heterogeneity of the near-surface layer of films of iron-yttrium granatos by implantation of Si+ ions
за авторством: B. K. Ostafiichuk, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: B. K. Ostafiichuk, та інші
Опубліковано: (2011)
Exposure of tungsten surface to high-flux of helium and argon ions
за авторством: Bizyukov, I.O., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Bizyukov, I.O., та інші
Опубліковано: (2014)
Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
Microhardness of helium-ion implanted iron-yttrium granate monocrystalline films
за авторством: V. V. Kurovets, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: V. V. Kurovets, та інші
Опубліковано: (2012)
Investigation of photodiode formation processes in insb by using beryllium ion implantation
за авторством: Yu. V. Holtvianskyi, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Yu. V. Holtvianskyi, та інші
Опубліковано: (2017)
Fast ion induced luminescence of silica implanted by molecular hydrogen
за авторством: Kalantaryan, O., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Kalantaryan, O., та інші
Опубліковано: (2014)
Properties of SiGe/Si heterostructures fabricated by ion implantation technique
за авторством: Gomeniuk, Y.V., та інші
Опубліковано: (1999)
за авторством: Gomeniuk, Y.V., та інші
Опубліковано: (1999)
Investigation of nitrogen distribution in samples obtained by ion-induced deposition of Cr film on aluminum under nitrogen ions bombardment
за авторством: A. V. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: A. V. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2003)
Optical properties of ion implanted thin Ni films on lithium niobate
за авторством: Lysiuk, V.O., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Lysiuk, V.O., та інші
Опубліковано: (2011)
Схожі ресурси
-
Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
за авторством: M. A. Lisovenko, та інші
Опубліковано: (2013) -
Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
за авторством: Lisovenko, M.A., та інші
Опубліковано: (2013) -
Magnetic force microscopy of YLaFeO films implanted by high dose of nitrogen ions
за авторством: I. M. Fodchuk, та інші
Опубліковано: (2013) -
Influence of high-dose ion implantation of NiTi equiatomic on shape memory and pseudoelastic
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012) -
Ion sources optimization for high energy ion implantation by computer simulation
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)