Dudin, S. V. (2006). Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Dudin, S. V. Plasma Etching of Gallium Nitride Based Heterostructures in Production of Optoelectronic Devices. 2006.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Dudin, S. V. Plasma Etching of Gallium Nitride Based Heterostructures in Production of Optoelectronic Devices. 2006.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.