Dissociative mode in low-pressure RF discharge

Dissociative mode in low-pressure RF discharge

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2006
Автор:	V. A. Lisovskij
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2006
Назва видання:	Physical surface engineering
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000855345
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Plasma sterilization in low-pressure RF discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Simulation oh the ignition of a low pressure rf capacitive discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Influence of component content of Ar/O₂ mixture on oxygen dissociation degree in plasma of low pressure discharge with hollow cathode
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)

The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Kinetic simulation of low pressure RF discharge in nonuniform axisymmetric magnetic field
за авторством: Olshansky, V.V.
Опубліковано: (2012)

Hollow cathode discharge in low pressure oxygen: transient mode
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)

Simulation of the ignition of alow pressure rf capacitive discharge
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)

Burning modes of dc low pressure discharge with a transverse constriction
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2015)

Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)

Deposition of nanocrystalline silicon films into low frequency induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.M., та інші
Опубліковано: (2014)

Low frequency oscillations in U-2M conditioning RF discharges
за авторством: Dreval, M.B., та інші
Опубліковано: (2018)

Stationary regimes of low pressure magnetron discharge
за авторством: A. V. Zykov, та інші
Опубліковано: (2015)

Theoretical and experimental investigation of the plasma source with argon RF barrier discharge at atmospheric pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)

Conditions of the normal mode appearence in the DC glow discharge
за авторством: V. A. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2006)

Photometric diagnostics of plasma of planar capacitive RF discharge in argon at 1 atm pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)

The possible variant of pulsed RF-discharge cleaning mode of the Uragan-3m torsatron
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2005)

Transport processes in the low pressure gas discharge plasma
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Treatment of polyimide films by an atmospheric pressure plasma of capacitive RF discharge for liquid crystal alignment
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2013)

Nitriding of the steels in gas arc low pressure discharge
за авторством: A. A. Andreev, та інші
Опубліковано: (2006)

Basic plasma features of planar jet formed by capacitive RF discharge in atmosphere pressure argon
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)

Study of low-pressure discharge by optical emission spectroscopy
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2020)

Low pressure gas discharge in magnetically insulated diode
за авторством: Jamirzoev, A., та інші
Опубліковано: (2015)

Rf potential determination at the driven electrode in complex technological gas discharge set-up
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2005)

Obstructed DC glow discharge in low-pressure nitrogen
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2010)

On dissociation in weakly doped ice
за авторством: Chikina, I., та інші
Опубліковано: (2015)

On dissociation in weakly doped ice
за авторством: I. Chikina, та інші
Опубліковано: (2015)

Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.N., та інші
Опубліковано: (2019)

Low pressure discharge induced by microwaves with stochastically jumping phase
за авторством: Karas’, V.I., та інші
Опубліковано: (2012)

Dissociation of involvement is to the crime from participation
за авторством: A. A. Soldatenko
Опубліковано: (2014)

Ignition and properties of RF capacitive discharge in acetylene
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023)

2-D electron system in the RF-discharge plasma. Part II. similarity of TDES in a solid and in the RF discharge
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2019)

AIR ATMOSPHERIC-PRESSURE DISCHARGERS FOR OPERATION IN HIGH-FREQUENCY SWITCHING MODE.
за авторством: Yevdoshenko, L. S.
Опубліковано: (2013)

Numerical simulation of nanoparticles coagulation in RF-discharge
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)

Modification of nonroach for the discharge sustained by surface waves in the range of the low pressure
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Kinetic processes in negative glow plasma of low pressure discharge in oxygen
за авторством: Tsiolko, V.V., та інші
Опубліковано: (2013)

Plasma assisted conversion of carbon dioxide in low-pressure gas discharges
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2019)

RF discharge in argon with cylindrical dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Low pressure discharge initiated by microwave radiation with stochastically jumping phase
за авторством: Karas’, V.I., та інші
Опубліковано: (2012)

Actinometric study of oxygen dissociation in ICP source
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014)