Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
Збережено в:
| Дата: | 2006 |
|---|---|
| Автор: | S. V. Dudin |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2006
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000855346 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
Actinometric study of oxygen dissociation in ICP source
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014)
Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)
Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2009)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2009)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters
за авторством: B. P. Polozov, та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: B. P. Polozov, та інші
Опубліковано: (2006)
Control of Time Scale Dynamical Systems with an Application to Concurrency Control for Real-time Database Systems
за авторством: Ramesh Babu, N., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Ramesh Babu, N., та інші
Опубліковано: (2010)
Automated control systems of the drilling process
за авторством: A. A. Kozhevnikov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: A. A. Kozhevnikov, та інші
Опубліковано: (2018)
Perception and Image Processing in Real Time Systems
за авторством: V. P. Boiun
Опубліковано: (2013)
за авторством: V. P. Boiun
Опубліковано: (2013)
Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source
за авторством: O. V. Vozniy, та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: O. V. Vozniy, та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
за авторством: Vozniy, O.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Vozniy, O.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Modelling of automated working time control systems in educational institutions
за авторством: V. V. Kolenko, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: V. V. Kolenko, та інші
Опубліковано: (2020)
Automated control system of technological process of applying wear-resistant coatings by ion-plasma method
за авторством: V. M. Tonkonogij, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: V. M. Tonkonogij, та інші
Опубліковано: (2020)
Increase of parallel data processing effectiveness and control of real-time multiprocessor computer system failure
за авторством: V. I. Zhabin
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. I. Zhabin
Опубліковано: (2015)
Real-time system for processing regime diagnostic on accelerator
за авторством: Yeran, L.V., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Yeran, L.V., та інші
Опубліковано: (2004)
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Automated method for determining the etch pits density on crystallographic planes of large semiconductor crystals
за авторством: G. S. Pekar, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: G. S. Pekar, та інші
Опубліковано: (2016)
Nanodimensional formations on the CdTe and ZnₓCd₁₋ₓTe surfaces at chemical etching
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)
Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: V. M. Tomashyk, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: V. M. Tomashyk, та інші
Опубліковано: (2013)
Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: Tomashyk, V.M., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Tomashyk, V.M., та інші
Опубліковано: (2013)
Plasma-Chemical Process Control of Water Purification from Persistent Organic Pollution
за авторством: S. V. Petrov, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: S. V. Petrov, та інші
Опубліковано: (2019)
TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Hibrid approach to processing incomplete stream data in distributed real-time systems
за авторством: Zhyliuk, Y., та інші
Опубліковано: (2025)
за авторством: Zhyliuk, Y., та інші
Опубліковано: (2025)
Methods and devices for parallel real time information processing
за авторством: H. T. Cherchyk
Опубліковано: (2014)
за авторством: H. T. Cherchyk
Опубліковано: (2014)
Development of deep silicon plasma etching for 3D integration technology
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)
Information Modeling of Complex Automated Process Control Systems, Based on Mivar Technology
за авторством: G. S. Sergushin, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: G. S. Sergushin, та інші
Опубліковано: (2013)
Program support and task planning in real-time systems
за авторством: S. V. Zinchenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: S. V. Zinchenko, та інші
Опубліковано: (2017)
System of automated software control of the antenna system of the satellite
за авторством: Yehorov, Volodymyr O.
Опубліковано: (2024)
за авторством: Yehorov, Volodymyr O.
Опубліковано: (2024)
Automated process control of evaporation for assortment product of food industry
за авторством: V. V. Ivashchuk, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. V. Ivashchuk, та інші
Опубліковано: (2016)
Optimization of Processes of Managerial Decision-Making Using Real-Time Reporting
за авторством: N. V. Katkova, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: N. V. Katkova, та інші
Опубліковано: (2018)
System of Organizational Control of the Automated Objects with the Increased Vitalit
за авторством: A. G. Dodonov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: A. G. Dodonov, та інші
Опубліковано: (2018)
Modeling of information recording and selective etching processes in inorganic resists
за авторством: Morozovska, A.N., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Morozovska, A.N., та інші
Опубліковано: (2005)
Highly productive real-time systems for the large-scale applications
за авторством: S. V. Zinchenko
Опубліковано: (2014)
за авторством: S. V. Zinchenko
Опубліковано: (2014)
Service-oriented, distributed real-time systems in digital libraries
за авторством: Novitsky, O.V.
Опубліковано: (2025)
за авторством: Novitsky, O.V.
Опубліковано: (2025)
Схожі ресурси
-
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006) -
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024) -
Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006) -
Actinometric study of oxygen dissociation in ICP source
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014) -
Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)