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Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2006
1. Verfasser:	S. V. Dudin
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2006
Schriftenreihe:	Physical surface engineering
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000855346
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