Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source
Збережено в:
| Дата: | 2007 |
|---|---|
| Автори: | O. V. Vozniy, G. Y. Yeom, Yu. Kropotov |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2007
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000858403 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
за авторством: Vozniy, O.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Vozniy, O.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Actinometric study of oxygen dissociation in ICP source
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
Plasma density measurement of RF ion source
за авторством: Voznyy, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Voznyy, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Ion sources optimization for high energy ion implantation by computer simulation
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
The Local Sources of Detrital Material in Middle Devonian Quartzites of the Donets Basin: Results of U-Pb LA-ICP-MS Zircon Dating
за авторством: L. V. Shumlyanskyy, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: L. V. Shumlyanskyy, та інші
Опубліковано: (2021)
Weak ion sound turbulence and isotope anomaly in electron cyclotron resonance ion source plasmas
за авторством: Ivanov, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Ivanov, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Ion energy distribution and basic characteristics of plasma flows of nonself-sustained arc discharge
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)
The low energy ribbon ion beam source and transport system
за авторством: Masunov, E.S., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Masunov, E.S., та інші
Опубліковано: (2006)
Effective grain potential in a plasma with external sources of ionization
за авторством: Zagorodny, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Zagorodny, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)
Characterization of plasma and emergent ion beam in a compact helicon source with permanent magnets
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
SYSTEM OF POWER SUPPLY WITH ALTERNATIVE ENERGY SOURCES: SECURITY OF ACOUSTIC SOURCES’ FUNCTIONING
за авторством: Sokol, G, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Sokol, G, та інші
Опубліковано: (2019)
System of power supply with alternative energy sources: security of acoustic sources functioning
за авторством: G. I. Sokol, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: G. I. Sokol, та інші
Опубліковано: (2019)
Influence of the ion viscosity on the current sheet formation and plasma heating
за авторством: Kurov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Kurov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)
Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Spatial energy channelling and stochastization of fast ion motion by high-frequency plasma instabilities
за авторством: Tyshchenko, M.H., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Tyshchenko, M.H., та інші
Опубліковано: (2015)
The influence of the bias potential and working gas pressure on the properties of the ion-plasma multilayer coating TiSiN/NbN
за авторством: D. V. Horokh, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: D. V. Horokh, та інші
Опубліковано: (2022)
Ion acoustic instability in dusty plasma
за авторством: Susayev, Y.V., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Susayev, Y.V., та інші
Опубліковано: (2020)
U-Pb LA-ICP-MS AGE OF DETRITAL ZIRCON FROM THE HLEYUVATKA SUITE OF KRYVBAS (THE UKRAINIAN SHIELD)
за авторством: Artemenko, G.V., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Artemenko, G.V., та інші
Опубліковано: (2018)
Potential governmental and departmental regulations on the development of alternative energy sources
за авторством: I. V. Manzhul
Опубліковано: (2016)
за авторством: I. V. Manzhul
Опубліковано: (2016)
Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
Multi-charged ions source
за авторством: Glazunov, L.S., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Glazunov, L.S., та інші
Опубліковано: (2011)
Influence of metal hydride hollow cathode on Penning ion source operation
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Development of the heavy ion beam probing diagnostic and new results in the plasma electric potential investigations
за авторством: Bondarenko, I.S., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bondarenko, I.S., та інші
Опубліковано: (2000)
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Power absorption inside helicon plasma of helium RF ion source in nonaxial magnetic field
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Power absorption inside helicon plasma of helium RF ion source in nonaxial magnetic field
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Influence high energy proton irradiation on structure and stress-strein state ion-plasma coating quasi-binary system TIC-WC
за авторством: O. V. Sobol, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. V. Sobol, та інші
Опубліковано: (2014)
U-Pb LA-ICP-MS age of detrital zircon from the Hleyevatka suite of Kryvbass (the Ukrainian shield)
за авторством: G. V. Artemenko, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: G. V. Artemenko, та інші
Опубліковано: (2018)
High number harmonic exitation by oscillators in periodic media and in periodic potential nonequilibrium electron distribution functions induced by fast ions in semiconductor plasma
за авторством: Zhurenko, V.P., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zhurenko, V.P., та інші
Опубліковано: (2003)
Modification of optical properties of tungsten exposed to low-energy, high flux deuterium plasma ions
за авторством: Alimov, V.Kh., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Alimov, V.Kh., та інші
Опубліковано: (2011)
Схожі ресурси
-
Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
за авторством: Vozniy, O.V., та інші
Опубліковано: (2007) -
Actinometric study of oxygen dissociation in ICP source
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014) -
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006) -
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002) -
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)