Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source

Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2007
Автори:	O. V. Vozniy, G. Y. Yeom, Yu. Kropotov
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2007
Назва видання:	Physical surface engineering
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000858403
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
за авторством: Vozniy, O.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Actinometric study of oxygen dissociation in ICP source
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2014)

Spatial distributions of plasma parameters in ICP reactor
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2010)

Potential part of electric field of ICP coil
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)

Ion energy and angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)

Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)

Plasma density measurement of RF ion source
за авторством: Voznyy, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Ion sources optimization for high energy ion implantation by computer simulation
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)

The Local Sources of Detrital Material in Middle Devonian Quartzites of the Donets Basin: Results of U-Pb LA-ICP-MS Zircon Dating
за авторством: L. V. Shumlyanskyy, та інші
Опубліковано: (2021)

Weak ion sound turbulence and isotope anomaly in electron cyclotron resonance ion source plasmas
за авторством: Ivanov, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)

The low energy ribbon ion beam source and transport system
за авторством: Masunov, E.S., та інші
Опубліковано: (2006)

Effective grain potential in a plasma with external sources of ionization
за авторством: Zagorodny, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)

Ion energy distribution and basic characteristics of plasma flows of nonself-sustained arc discharge
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)

Resonant RF electromagnetic field input in the helicon plasma ion source
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2014)

2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Heavy ion beam injectors for the plasma potential and electron temperature measurements
за авторством: Bondarenko, I.S., та інші
Опубліковано: (2000)

SYSTEM OF POWER SUPPLY WITH ALTERNATIVE ENERGY SOURCES: SECURITY OF ACOUSTIC SOURCES’ FUNCTIONING
за авторством: Sokol, G, та інші
Опубліковано: (2019)

System of power supply with alternative energy sources: security of acoustic sources functioning
за авторством: G. I. Sokol, та інші
Опубліковано: (2019)

Characterization of plasma and emergent ion beam in a compact helicon source with permanent magnets
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Influence of the ion viscosity on the current sheet formation and plasma heating
за авторством: Kurov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)

Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Potential governmental and departmental regulations on the development of alternative energy sources
за авторством: I. V. Manzhul
Опубліковано: (2016)

Spatial energy channelling and stochastization of fast ion motion by high-frequency plasma instabilities
за авторством: Tyshchenko, M.H., та інші
Опубліковано: (2015)

The influence of the bias potential and working gas pressure on the properties of the ion-plasma multilayer coating TiSiN/NbN
за авторством: D. V. Horokh, та інші
Опубліковано: (2022)

Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)

Influence of metal hydride hollow cathode on Penning ion source operation
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)

About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Ion acoustic instability in dusty plasma
за авторством: Susayev, Y.V., та інші
Опубліковано: (2020)

Multi-charged ions source
за авторством: Glazunov, L.S., та інші
Опубліковано: (2011)

Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)

Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)

Gas hydrates of Black Sea – potential source of energy (analytical review)
за авторством: E. F. Shnjukov, та інші
Опубліковано: (2017)

Development of the heavy ion beam probing diagnostic and new results in the plasma electric potential investigations
за авторством: Bondarenko, I.S., та інші
Опубліковано: (2000)

Axial energy spread measurements of a 27.12 MHz multicusp ion source
за авторством: Voznyi, V.I., та інші
Опубліковано: (2009)

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)