Comparison of characteristics of vacuum-arc nano-structure TIN coatings deposited under hv pulse substrate bias
Збережено в:
Дата: | 2007 |
---|---|
Автори: | V. M. Shulaev, A. A. Andreev, V. F. Gorban, V. A. Stolbovoj |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2007
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000858413 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Deposition of superhard vacuum-arc TiN coatings
за авторством: A. A. Andreev, та інші
Опубліковано: (2006) -
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019) -
Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2019) -
Influence of the method of depositing vacuum-arc TiN coatings on their gas evolution in vacuum at high temperatures
за авторством: G. P. Glazunov, та інші
Опубліковано: (2009) -
The Use of Pulsed Ion Stimulation to Modify the Stressed Structure State and Mechanical Properties of Vacuum—Arc TiN Coatings
за авторством: A. A. Andreev, та інші
Опубліковано: (2013)