Rf potential determination at the driven electrode in complex technological gas discharge set-up
Збережено в:
| Дата: | 2005 |
|---|---|
| Автори: | V. Lisovskij, Zh.-P. But, K. Landri, D. Due, G. Renar, V. Kasan |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2005
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000859333 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)
Dissociative mode in low-pressure RF discharge
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006)
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006)
Characteristic properties of the three-half-turn-antenna-driven RF discharge in the Uragan-3M torsatron
за авторством: Chechkin, V.V., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Chechkin, V.V., та інші
Опубліковано: (2014)
Application of driven plasma cathode in RF electron gun
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2004)
2-D electron system in the RF-discharge plasma. Part II. similarity of TDES in a solid and in the RF discharge
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2019)
Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023)
RF discharge in argon with cylindrical dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Ignition and properties of RF capacitive discharge in acetylene
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma sterilization in low-pressure RF discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Numerical simulation of nanoparticles coagulation in RF-discharge
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)
Application of electrode-driven shear flows for improved plasma confinement
за авторством: Beklemishev, A.D., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Beklemishev, A.D., та інші
Опубліковано: (2010)
Plasma of electric arc discharge between copper electrodes in a gas flow
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
Dependence of RF breakdown curve on electrode geometry in CCP reactor
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2012)
Simulation of the ignition of alow pressure rf capacitive discharge
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)
Influence of dust particles on RF-discharge plasma afterglow
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
Development of Technology for Vacuum Surface Conditioning by RF Plasma Discharge Combined with DC Discharge
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)
The investigation of RF discharge in the procession-plasma method by coating films
за авторством: V. I. Gritsenko, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. I. Gritsenko, та інші
Опубліковано: (2003)
Computer simulation of dust transport phenomena in a RF discharge
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2010)
Stochastic heating of electrons in capacitive RF discharges by plasma oscillations
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012)
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012)
Dusty RF discharges with non-uniform distributions of dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2003)
Investigation of a hyperfine gas-discharge cell with a platinum alloy silicon semiconductor electrode
за авторством: Z. Khajdarov
Опубліковано: (2011)
за авторством: Z. Khajdarov
Опубліковано: (2011)
Investigation of the characteristics of an image converter in a hyperfine gas-discharge cell with a semiconductor electrode
за авторством: Kh. T. Juldashev, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Kh. T. Juldashev, та інші
Опубліковано: (2015)
Photoelectric phenomena in the hyperfine (3-20 μm) gap gas discharge with a semiconductor electrode
за авторством: Z. Khajdarov, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Z. Khajdarov, та інші
Опубліковано: (2015)
Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
Low frequency oscillations in U-2M conditioning RF discharges
за авторством: Dreval, M.B., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Dreval, M.B., та інші
Опубліковано: (2018)
Deposition of nanocrystalline silicon films into low frequency induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.M., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Deryzemlia, A.M., та інші
Опубліковано: (2014)
A computer simulation of the effect of dusty particles on the characteristic of RF discharges
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2007)
Simulation oh the ignition of a low pressure rf capacitive discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Iodine-stabilized He-Ne laser pumped by transverse rf-discharge
за авторством: Boyko, O.V., та інші
Опубліковано: (1999)
за авторством: Boyko, O.V., та інші
Опубліковано: (1999)
Building up the Mechanism to Manage Foreign Technology Transfer for Innovation-Driven Economic Development in Ukraine
за авторством: O. B. Salikhova, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: O. B. Salikhova, та інші
Опубліковано: (2016)
Development of mathematical and experimental model of neutron radiography set up
за авторством: Batiy, V.G., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Batiy, V.G., та інші
Опубліковано: (2003)
Influence of secondary electron emission on the RF gas breakdown
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Dakhov, A.N., та інші
Опубліковано: (2013)
Wall conditioning discharges driven by Т-shaped antenna in Uragan-2M
за авторством: Lozin, A.V., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Lozin, A.V., та інші
Опубліковано: (2018)
Characteristics of the nanosecond overvoltage discharge between CuInSe2 chalcopyrite electrodes in oxygen-free gas media
за авторством: O. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: O. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2020)
Characteristics of the nanosecond overvoltage discharge between CuInSe2 chalcopyrite electrodes in oxygen-free gas media
за авторством: A. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2020)
The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Ethno cultural dialog about the tolerant international relations set up
за авторством: O. Kalakura
Опубліковано: (2010)
за авторством: O. Kalakura
Опубліковано: (2010)
Determining the rotational velocity of gas-metal multicomponent plasma in a reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010)
Схожі ресурси
-
Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004) -
Dissociative mode in low-pressure RF discharge
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006) -
Characteristic properties of the three-half-turn-antenna-driven RF discharge in the Uragan-3M torsatron
за авторством: Chechkin, V.V., та інші
Опубліковано: (2014) -
Application of driven plasma cathode in RF electron gun
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2004) -
2-D electron system in the RF-discharge plasma. Part II. similarity of TDES in a solid and in the RF discharge
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2019)