Influence of spattering regimes and spattering system geometry on the thickness and composition of prepared films
Збережено в:
Дата: | 2005 |
---|---|
Автори: | V. V. Petukhov, A. A. Goncharov, V. A. Konovalov, D. N. Terpij, V. A. Stupak |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2005
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000859385 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозиторії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012) -
Structure, composition, and mechanical properties of thin films of transition metals diborides
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2015) -
Effects of carbonization of filaments on CVD diamond thick films prepared by HFCVD method
за авторством: Fuming Deng, та інші
Опубліковано: (2020) -
Effect of film thickness on the width of percolation threshold in metal-dielectric composites
за авторством: Mokhtari, M., та інші
Опубліковано: (2016) -
Influence of germanium sublayers on the structure of gold films with nanometer thickness
за авторством: R. I. Bihun, та інші
Опубліковано: (2015)