Ion-beam deposition of ultrathin metall nitride and oxynitride films process stabilization
Збережено в:
Дата: | 2008 |
---|---|
Автори: | A. V. Derevjanko, A. N. Stervoedov, Ju. Silkin |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2008
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000867772 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Репозиторії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Features of X-ray photoelectron spectroscopy for determining the thickness of ultrathin films
за авторством: A. N. Stervoedov, та інші
Опубліковано: (2010) -
Mechanical and acoustic characteristics of oxidized, nitrided and oxynitrided Zr-1%Nb zirconium alloy
за авторством: Trush, V.S., та інші
Опубліковано: (2022) -
Distribution of chemical composition depth in Cr-O-N films obtained by the method ion-stimulated deposition
за авторством: A. N. Stervoedov
Опубліковано: (2009) -
A Charge Transport in Ultrathin Electrically Continuous Metal Films
за авторством: Bigun, R.I., та інші
Опубліковано: (2010) -
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)