The formation of isolating and gettering layers in semiconductors with use of medium energy proton implantation
Збережено в:
Дата: | 2008 |
---|---|
Автори: | F. F. Komarov, O. V. Milchanin, A. M. Mironov, A. I. Kupchishin |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2008
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872884 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Hydrogen gettering in annealed oxygen-implanted silicon
за авторством: A. Misiuk, та інші
Опубліковано: (2010) -
Hydrogen gettering in annealed oxygen-implanted silicon
за авторством: Misiuk, A., та інші
Опубліковано: (2010) -
Influence of gettering on aluminum ohmic contact formation
за авторством: V. N. Litvinenko, та інші
Опубліковано: (2020) -
Characteristics of gettering process in multicrystalline Si wafers with combined porous Si/Al getters
за авторством: A. Sarikov, та інші
Опубліковано: (2012) -
Characteristics of gettering process in multicrystalline Si wafers with combined porous Si/Al getters
за авторством: Sarikov, A., та інші
Опубліковано: (2012)