Impurity concentration influence on the correlation of the x-ray lines intensity in metal-fullerene crystals
Збережено в:
Дата: | 2009 |
---|---|
Автори: | A. N. Drozdov, A. S. Vus, V. E. Pukha, A. T. Pugachev |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2009
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872962 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
The sputtering of silicon and carbon targets by accelerated ion by the fullerene C60
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015) -
Intensive X-ray source optimization
за авторством: Bochek, G.L., та інші
Опубліковано: (2005) -
X-ray lines relative intensity depending on detector efficiency, foils and cases thickness for primary and scattered spectra
за авторством: Bochek, G.L., та інші
Опубліковано: (2011) -
Generation of intense ultra-short X-ray pulses in wake field undulator
за авторством: Opanasenko, A.
Опубліковано: (2011) -
X-ray line spectrometry in experiments with the aluminium Z-pinch
за авторством: Anan’ev, S.S., та інші
Опубліковано: (2010)