Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures
Gespeichert in:
| Datum: | 2009 |
|---|---|
| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
2009
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| Schriftenreihe: | Physical surface engineering |
| Online Zugang: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872969 |
| Tags: |
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| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |