Distribution of chemical composition depth in Cr-O-N films obtained by the method ion-stimulated deposition
Збережено в:
Дата: | 2009 |
---|---|
Автор: | A. N. Stervoedov |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2009
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872972 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Computer simulation of transient layer chemical composition in Cr-N films obtained by ion beam assisted deposition
за авторством: Marchenko, I.G., та інші
Опубліковано: (2001) -
Investigation of nitrogen distribution in samples obtained by ion-induced deposition of Cr film on aluminum under nitrogen ions bombardment
за авторством: A. V. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2003) -
Stimulated emission of Cr²⁺ ions in ZnS:Cr thin-film electroluminescent structures
за авторством: Vlasenko, N.A., та інші
Опубліковано: (2009) -
Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2006) -
Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2006)