The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
Gespeichert in:
| Datum: | 2020 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | V. M. Kolomiiets, O. I. Shkurat, S. M. Kravchenko, Yu. Lopatkin, I. H. Chyzhov, Ye. Samoilov, Yu. A. Pavlenko, M. O. Melnyk, O. I. Honcharenko |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
2020
|
| Schriftenreihe: | Science and innovation |
| Online Zugang: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001123531 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Institution
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASÄhnliche Einträge
Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
von: Bogdanov, R.V., et al.
Veröffentlicht: (2013)
von: Bogdanov, R.V., et al.
Veröffentlicht: (2013)
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
von: O. V. Kalinkevich, et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: O. V. Kalinkevich, et al.
Veröffentlicht: (2017)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: A. Sagalovych, et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: A. Sagalovych, et al.
Veröffentlicht: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: Sagalovych, A., et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: Sagalovych, A., et al.
Veröffentlicht: (2012)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
von: S. V. Dudin, et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: S. V. Dudin, et al.
Veröffentlicht: (2005)
Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2004)
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2004)
Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
von: Nowakowska-Langier, K., et al.
Veröffentlicht: (2010)
von: Nowakowska-Langier, K., et al.
Veröffentlicht: (2010)
Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
von: A. A. Goncharov, et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: A. A. Goncharov, et al.
Veröffentlicht: (2014)
Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
von: O. I. Vjunov, et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: O. I. Vjunov, et al.
Veröffentlicht: (2014)
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
von: V. A. Sevrjukova, et al.
Veröffentlicht: (2011)
von: V. A. Sevrjukova, et al.
Veröffentlicht: (2011)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
von: Panchenko, O.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Panchenko, O.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)
System of automatic frequency control of heterodyne of radar receiver with magnetron transmitter
von: I. M. Mytsenko, et al.
Veröffentlicht: (2018)
von: I. M. Mytsenko, et al.
Veröffentlicht: (2018)
Phase composition, structure and stress state of magnetron sputtered W-Ti condensates
von: Sobol`, O.V.
Veröffentlicht: (2006)
von: Sobol`, O.V.
Veröffentlicht: (2006)
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2020)
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2020)
Influence of parameters of magnetron sputtering process on phase composition and structure of carbon nitride coatings
von: Yu. S. Borysov, et al.
Veröffentlicht: (2022)
von: Yu. S. Borysov, et al.
Veröffentlicht: (2022)
The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
von: Safonov, V., et al.
Veröffentlicht: (2019)
von: Safonov, V., et al.
Veröffentlicht: (2019)
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2015)
Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2017)
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
von: A. I. Bazhin, et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: A. I. Bazhin, et al.
Veröffentlicht: (2012)
Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
von: A. D. Pogrebnjak, et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: A. D. Pogrebnjak, et al.
Veröffentlicht: (2012)
The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
von: G. S. Khrypunov, et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: G. S. Khrypunov, et al.
Veröffentlicht: (2017)
Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
von: M. I. Mokhnenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: M. I. Mokhnenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2017)
Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB2-TiSi2
von: I. N. Torianik, et al.
Veröffentlicht: (2013)
von: I. N. Torianik, et al.
Veröffentlicht: (2013)
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
von: Zayats, M.S., et al.
Veröffentlicht: (2010)
von: Zayats, M.S., et al.
Veröffentlicht: (2010)
Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2016)
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2016)
Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
von: Gasilin, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Gasilin, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2005)
Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
von: O. O. Onopriienko, et al.
Veröffentlicht: (2020)
von: O. O. Onopriienko, et al.
Veröffentlicht: (2020)
Equipment for maintenance of high-voltage devices with sulfur hexafluoride (SF6) insulation
von: V. B. Moskalenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: V. B. Moskalenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
Thermal and spectral characteristics of quasioptical filtering devices for cryoelectronic receiving systems
von: E. M. Rudenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: E. M. Rudenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
von: V. I. Popovych, et al.
Veröffentlicht: (2016)
von: V. I. Popovych, et al.
Veröffentlicht: (2016)
Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
von: V. I. Popovych, et al.
Veröffentlicht: (2016)
von: V. I. Popovych, et al.
Veröffentlicht: (2016)
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
A method of quasi-continuous image formation in observation devices with discrete receivers
von: Yu. Slonov, et al.
Veröffentlicht: (2021)
von: Yu. Slonov, et al.
Veröffentlicht: (2021)
Properties of coatings of the Al–Cr–Fe–Co–Ni–Cu–V high entropy alloy produced by the magnetron sputtering
von: L. R. Shaginjan, et al.
Veröffentlicht: (2016)
von: L. R. Shaginjan, et al.
Veröffentlicht: (2016)
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
von: Brus, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2011)
von: Brus, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2011)
Crack initiation on inner surface of piping at high temperatures. Information 1. Thermal load on pipe walls at starting and in service
von: S. A. Nedoseka, et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: S. A. Nedoseka, et al.
Veröffentlicht: (2015)
Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
von: V. V. Brus, et al.
Veröffentlicht: (2011)
von: V. V. Brus, et al.
Veröffentlicht: (2011)
Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
von: A. Rahmati, et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: A. Rahmati, et al.
Veröffentlicht: (2012)
Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
von: A. Rahmati, et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: A. Rahmati, et al.
Veröffentlicht: (2012)
Ähnliche Einträge
-
Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
von: Bogdanov, R.V., et al.
Veröffentlicht: (2013) -
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
von: O. V. Kalinkevich, et al.
Veröffentlicht: (2017) -
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: A. Sagalovych, et al.
Veröffentlicht: (2012) -
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: Sagalovych, A., et al.
Veröffentlicht: (2012) -
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
von: S. V. Dudin, et al.
Veröffentlicht: (2005)