The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
Збережено в:
Дата: | 2020 |
---|---|
Автори: | V. M. Kolomiiets, O. I. Shkurat, S. M. Kravchenko, Yu. Lopatkin, I. H. Chyzhov, Ye. Samoilov, Yu. A. Pavlenko, M. O. Melnyk, O. I. Honcharenko |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2020
|
Назва видання: | Science and innovation |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001123531 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013) -
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017) -
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012) -
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012) -
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)