Development of a technology for the production of nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
Збережено в:
| Дата: | 2023 |
|---|---|
| Автори: | M. T. Normuradov, Sh. T. Khozhiev, K. T. Dovranov, X. T. Davranov, M. A. Davlatov, F. K. Khollokov |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
2023
|
| Назва видання: | Ukrainian Journal of Physics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001416154 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Development of technology for obtaining nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
за авторством: M. T. Normuradov, та інші
Опубліковано: (2023) -
Розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування
за авторством: Normuradov, M.T., та інші
Опубліковано: (2023) -
Ion plasma deposition and optical properties of SiC films
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005) -
Formation of Mn4Si7/Si(111), CrSi2/Si(111), and CoSi2/Si(111) thin film and evaluation of their optically direct and indirect band gap
за авторством: K. T. Dovranov, та інші
Опубліковано: (2024) -
Formation of Mn4Si7/Si(111), CrSi2/Si(111), and CoSi2/Si(111) thin film and evaluation of their optically direct and indirect band gap
за авторством: K. T. Dovranov, та інші
Опубліковано: (2024)