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Formation of nanocrystalline silicon in tin-doped amorphous silicon films

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2020
Hauptverfasser:	R. M. Rudenko, O. O. Voitsihovska, V. V. Voitovych, M. M. Krasko, A. G. Kolosyuk, Yu. Povarchuk, M. P. Rudenko, L. M. Knorozok
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2020
Schriftenreihe:	Ukrainian journal of physics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001127991
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