Зображення обкладинки

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2020
Автори:	O. O. Onopriienko, V. I. Ivashchenko, P. L. Skrynskyi, O. K. Synelnichenko, A. O. Kozak, A. M. Kovalchenko, O. I. Olifan
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2020
Назва видання:	Superhard Materials
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001130418
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)

Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Effect of deposition parameters on microstructure and tribological properties of hard CA-PVD multi-component TiAlCrN and TiAlCrCN coatings
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2020)

Formation of porous zinc nanosystems using direct and reverse flows of DC magnetron sputtering
за авторством: Latyshev, V.M., та інші
Опубліковано: (2017)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)

Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn₁₋xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: Kolomys, O., та інші
Опубліковано: (2014)

Properties of coatings of the Al–Cr–Fe–Co–Ni–Cu–V high entropy alloy produced by the magnetron sputtering
за авторством: L. R. Shaginjan, та інші
Опубліковано: (2016)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)

Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn1-xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: O. Kolomys, та інші
Опубліковано: (2014)

Synthesis of dielectric compounds based on a DC magnetron
за авторством: O. V. Zykov, та інші
Опубліковано: (2009)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)

The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)

Phase composition, structure and stress state of magnetron sputtered W-Ti condensates
за авторством: Sobol`, O.V.
Опубліковано: (2006)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)

Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013)

Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)

Structure and mechanical properties of nano-layered Ti–V/S films
за авторством: V. I. Ivashchenko, та інші
Опубліковано: (2022)

Effect of the deposition parameters on the phase-structure state, hardness, and tribological characteristics of Mo2N/CrN vacuum-arc multilayer coatings
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2016)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)

Influence of parameters of magnetron sputtering process on phase composition and structure of carbon nitride coatings
за авторством: Yu. S. Borysov, та інші
Опубліковано: (2022)

Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)