Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2020
Автори:	O. O. Onopriienko, V. I. Ivashchenko, P. L. Skrynskyi, O. K. Synelnichenko, A. O. Kozak, A. M. Kovalchenko, O. I. Olifan
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2020
Назва видання:	Superhard Materials
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001130418
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Effect of deposition parameters on microstructure and tribological properties of hard CA-PVD multi-component TiAlCrN and TiAlCrCN coatings
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2020)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)

Formation of porous zinc nanosystems using direct and reverse flows of DC magnetron sputtering
за авторством: Latyshev, V.M., та інші
Опубліковано: (2017)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)

Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn₁₋xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: Kolomys, O., та інші
Опубліковано: (2014)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)

Structure of tantalum diboride thin films deposited by RF-magnetron sputtering
за авторством: Konovalov, V.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn1-xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: O. Kolomys, та інші
Опубліковано: (2014)

Effect of the deposition parameters on the phase-structure state, hardness, and tribological characteristics of Mo2N/CrN vacuum-arc multilayer coatings
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2016)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)

Synthesis of dielectric compounds based on a DC magnetron
за авторством: O. V. Zykov, та інші
Опубліковано: (2009)

Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2018)

The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)

ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)

Phase composition, structure and stress state of magnetron sputtered W-Ti condensates
за авторством: Sobol`, O.V.
Опубліковано: (2006)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)

Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)

Properties of coatings of the Al–Cr–Fe–Co–Ni–Cu–V high entropy alloy produced by the magnetron sputtering
за авторством: L. R. Shaginjan, та інші
Опубліковано: (2016)

Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)

Structure and mechanical properties of nano-layered Ti–V/S films
за авторством: V. I. Ivashchenko, та інші
Опубліковано: (2022)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

Characterisation of Mo–V–N Coatings Deposited on XC100 Substrate by Sputtering Cathodic Magnetron
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)