Aldiyarov, A., Sokolov, D., Akylbayeva, A., Nurmukan, A., & Tokmoldin, N. (2020). On thermal stability of cryovacuum deposited CH4+H2O films.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Aldiyarov, A., D. Sokolov, A. Akylbayeva, A. Nurmukan, та N. Tokmoldin. On Thermal Stability of Cryovacuum Deposited CH4+H2O Films. 2020.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Aldiyarov, A., et al. On Thermal Stability of Cryovacuum Deposited CH4+H2O Films. 2020.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.