On thermal stability of cryovacuum deposited CH4+H2O films

On thermal stability of cryovacuum deposited CH4+H2O films

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2020
Hauptverfasser:	A. Aldiyarov, D. Sokolov, A. Akylbayeva, A. Nurmukan, N. Tokmoldin
Format:	Artikel
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2020
Schriftenreihe:	Low Temperature Physics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001168655
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