Buchumschlag

Influence of parameters of magnetron sputtering process on phase composition and structure of carbon nitride coatings

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Datum:	2022
Hauptverfasser:	Yu. S. Borysov, O. V. Volos, N. V. Vihilianska, V. H. Zadoia, V. V. Strelchuk
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2022
Schriftenreihe:	Automatic Welding
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001369183
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Institution

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Ähnliche Einträge

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: A. Sagalovych, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: Sagalovych, A., et al.
Veröffentlicht: (2012)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
von: O. V. Kalinkevich, et al.
Veröffentlicht: (2017)

Phase composition, structure and stress state of magnetron sputtered W-Ti condensates
von: Sobol`, O.V.
Veröffentlicht: (2006)

Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
von: Nowakowska-Langier, K., et al.
Veröffentlicht: (2010)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
von: Panasyuk, A.D., et al.
Veröffentlicht: (2009)

The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
von: V. M. Kolomiiets, et al.
Veröffentlicht: (2020)

Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
von: A. D. Pogrebnjak, et al.
Veröffentlicht: (2012)

The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
von: A. I. Bazhin, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Morphology and sputtering of tungsten nitrides coatings exposed to deuterium plasma
von: Tolstolutskaya, G.D., et al.
Veröffentlicht: (2023)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
von: Safonov, V., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2020)

Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn1-xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
von: O. Kolomys, et al.
Veröffentlicht: (2014)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2017)

Magnetron nc-TiC/a-C nanocomposite coatings
von: Ju. S. Borisov, et al.
Veröffentlicht: (2013)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
von: S. V. Dudin, et al.
Veröffentlicht: (2005)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
von: Afanasіeva, I.A., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2004)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
von: V. A. Sevrjukova, et al.
Veröffentlicht: (2011)

Properties of coatings of the Al–Cr–Fe–Co–Ni–Cu–V high entropy alloy produced by the magnetron sputtering
von: L. R. Shaginjan, et al.
Veröffentlicht: (2016)

Investigation of process of formation of structure and properties in magnetron nanolayer FeAl-coatings
von: Ju. S. Borisov, et al.
Veröffentlicht: (2017)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
von: Panchenko, O.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB2-TiSi2
von: I. N. Torianik, et al.
Veröffentlicht: (2013)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
von: A. A. Goncharov, et al.
Veröffentlicht: (2014)

Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
von: Bogdanov, R.V., et al.
Veröffentlicht: (2013)

The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
von: G. S. Khrypunov, et al.
Veröffentlicht: (2017)

Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2016)

Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2010)

Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
von: O. I. Vjunov, et al.
Veröffentlicht: (2014)

Influence of doping environment and additional nitriding on microhardness, structure and phase composition of iron pad
von: K. M. Khranovska, et al.
Veröffentlicht: (2010)

Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films
von: Shalaev, R.V., et al.
Veröffentlicht: (2008)

Properties of nanocomposite nitride coatings
von: A. D. Pogrebnjak, et al.
Veröffentlicht: (2011)

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
von: O. O. Onopriienko, et al.
Veröffentlicht: (2020)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
von: M. I. Mokhnenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
von: A. Rahmati, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
von: A. Rahmati, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
von: Василенко, Наталья Афанасьевна, et al.
Veröffentlicht: (2014)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
von: Василенко, Наталья Афанасьевна, et al.
Veröffentlicht: (2014)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
von: N. A. Vasilenko, et al.
Veröffentlicht: (2013)

Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2015)