Precision control system for a continuous chemical reactor
Збережено в:
Дата: | 2019 |
---|---|
Автори: | A. A. Stopakevich, E. O. Ulitskaja |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2019
|
Назва видання: | International Scientific Technical Journal «Problems of Control and Informatics» |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001246413 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2015) -
Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017) -
A precision system for thermostabilization with increased power
за авторством: I. V. Kosiak
Опубліковано: (2018) -
A precision system for thermostabilization with increased power
за авторством: Kosyak, I. V.
Опубліковано: (2018) -
Chemical Binding of Sulfur Dioxide in a Bubbling Reactor with the Use of Urea
за авторством: O. M. Kolomiiets
Опубліковано: (2023)