Onoprienko, A. A., Ivashchenko, V. I., Kozak, A. O., Sinelnichenko, A. K., & Tomila, T. V. (2019). Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Onoprienko, A. A., V. I. Ivashchenko, A. O. Kozak, A. K. Sinelnichenko, та T. V. Tomila. Deposition and Characterization of Thin Si–B–C–N Films by Dc Reactive Magnetron Sputtering of Composed Si/B4C Target. 2019.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Onoprienko, A. A., et al. Deposition and Characterization of Thin Si–B–C–N Films by Dc Reactive Magnetron Sputtering of Composed Si/B4C Target. 2019.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.