Thongpan, W., Kumpika, T., Kantarak, E., Panthawan, A., Pooseekheaw, P., Singjai, P., . . . Tuantranont, A. (2018). External-electric-field-enhanced uniformity and deposition rate of a TiO2 film prepared by the sparking process.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Thongpan, W., T. Kumpika, E. Kantarak, A. Panthawan, P. Pooseekheaw, P. Singjai, W. Thongsuwan, та A. Tuantranont. External-electric-field-enhanced Uniformity and Deposition Rate of a TiO2 Film Prepared by the Sparking Process. 2018.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Thongpan, W., et al. External-electric-field-enhanced Uniformity and Deposition Rate of a TiO2 Film Prepared by the Sparking Process. 2018.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.